南宁真空镀膜机设备公司

镀膜薄膜均匀性概念：厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。真空镀膜机有很多优点：可选择的镀膜材料多而不受材料熔点限制。南宁真空镀膜机设备公司

真空镀膜系统是在真空条件下对薄膜器件进行镀膜的设备。为了提高生产效率，真空镀膜系统通常有输送待涂覆的基材或装载有多个待涂覆基材的载板。现有轧辊一般为金属轧辊，采用圆柱形整体金属结构。待镀基板或载体与金属滚筒接触，由滚筒驱动实现传动。待镀基板或载体的电流通过金属辊传导至腔体，实现镀膜放电。然而，待镀基板或载体与金属辊相切，两者硬接触，使得待镀基板或载体在传输过程中振动。结果，待镀基板或载体被划伤甚至磨损，待镀基板或载体与金属辊线接触，接触面积小，导电率慢，导电性差，影响了镀膜放电的稳定性，镀膜效果差，不能满足大容量、大电流、高成品率的工艺要求。 广州磁控多弧复合镀膜机镀膜机高温时断水、断电：镀膜机怕的就是高温时断水、断电。

卷绕真空镀膜设备的部件：速度控制和张力控制：速度控制：带状基体的线速度恒定是保持膜厚均匀的重要条件。卷绕系统带材的速度控制多数采用以电流控制为主的速度恒定控制，速度都可以根据产品的要求，事先设定、自动调节。张力控制：薄膜张力控制在卷绕真空镀膜机中是一个关键问题。张力控制同膜的跑偏、暴筋、起皱等现象均有关系。蒸发系统由蒸发源夹座（电极）、蒸发源、送丝机构等组成。PVD镀膜设备真空室开启机构：大型双室半连续蒸发镀膜机的开启机构一般由真空室体，卷绕机构，密封大板，动力柜，行程开关和小车组成。根据镀膜基本材料的幅宽，确定单门还是双门开启。常见的真空室多是单门开启，蒸发器仍在镀膜室内。

PVD镀膜与传统化学镀膜相似，它们都是一种材料以某种方式被另一种材料覆盖的表面处理方式。两者的区别在于：PVD镀膜与工件表面的结合力更大，膜层硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层性能更稳定 PVD镀膜可以镀的膜种类更普遍，各种可以镀的膜颜色更漂亮；PVD涂料不会产生有毒或污染物质。采用PVD镀膜技术镀出的膜层具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、良好的耐蚀性和化学稳定性等特点。同时，膜层可以改善工件的外观和装饰性能。目前技术能做出的膜层颜色有深金黄色、浅金黄色、棕色、青铜色、灰色、黑色、灰黑色、七彩等等。通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀层的颜色；镀膜后，可以用相关仪器测量色值，对颜色进行量化，从而确定镀膜颜色是否符合要求。镀膜机的特点：成膜温度低。

镀膜机的特点：成膜温度低。钢铁行业中的热镀锌镀膜温度一般是400℃～500℃，化学镀膜温度更高达1000℃以上。这样高的温度很容易引起被镀件的变形、变质，而真空镀膜的温度低，可以降到常温，避免了常规镀膜工艺的弊端。蒸发源选择自由度大。可选择的镀膜材料多而不受材料熔点限制，可镀种类众多的金属氮化膜，金属氧化膜和金属炭化物及各种复合膜。不使用有害气体、液体，对环境无不利影响。在当前越来越重视环保的大趋势下，这点极其可贵。带钢镀膜质量好。能获得均匀、平滑且极薄的镀膜，镀膜纯度高，耐蚀性和附着力好。不存在热镀锌中的漏镀点、锌浪、锌花等问题。工艺灵活，改变品种方便。可镀单面、双面和单层、多层及混合层。镀膜厚度易于控制。真空镀膜机的蒸发源选择自由度大。西安电子枪镀膜机

对于真空镀膜机蒸发镀膜：一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。南宁真空镀膜机设备公司

光学镀膜机光学镀膜加工上有什么要注意的吗？当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5%会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失到达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5%，多层增透膜则可让反射降低至0.25%，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95%，镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。南宁真空镀膜机设备公司

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